矽溶膠抛光液：由于抛光液的選擇要滿足易清洗、抛光均勻性好、抛光速度快的特點，而且矽溶膠作(zuò)為(wèi)一種軟性磨料，在二氧化矽磨粒表面包覆一層無色透明的膠體(tǐ)，使其硬度比二氧化矽磨粒軟，粒度約為(wèi)0.01-0.1um，使抛光面在加工(gōng)過程中(zhōng)不易被劃傷。同時，其膠體(tǐ)粒徑為(wèi)納米，具(jù)有(yǒu)較大的比表面積。由于其高滲透性和分(fēn)散性，其顆粒表面常吸附OH-并帶負電(diàn)荷，具(jù)有(yǒu)良好的疏水性和親水性，因此廣泛用(yòng)于二氧化矽、矽片、藍寶石等光學(xué)器件表面的抛光。由于二氧化矽的粒度很(hěn)細，約為(wèi)0.01-0.1m，抛光後工(gōng)件表面的損傷層小(xiǎo)。此外，二氧化矽的硬度與矽晶片的硬度相似，因此經常用(yòng)于抛光半導體(tǐ)晶片。在抛光時，我們通常不使用(yòng)氣相法制備的微米級二氧化矽顆粒，而是使用(yòng)納米二氧化矽溶膠來降低表面粗糙度和損傷層的深度。二氧化矽是矽溶膠抛光液的重要組成部分(fēn)，其粒徑、密度、分(fēn)散性等因素直接影響化學(xué)機械抛光的速率和質(zhì)量。